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ぼく・わたしのかんがえた<エンブリオ> / 14078

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名前なし 2021/12/05 (日) 22:08:06 修正 da58c@0d182

【模造武装 コブニュ】
TYPE:カリキュレーター・ルール
特性:装備の模造、解析
形状:眼球置換
ステータス補正:近接系ステータスが多少ある
スキル
《武装模造》アクティブ
自身が視認した装備を解析し生成する。自身に所有権が存在しない場合性能が本来の60%しか発揮されず、コストも過剰に重くなる。
自身に所有権が存在する装備の場合コストは減少し性能が100%生成できる。
しかし、どの装備も作成してから1時間以内に自壊する

《模造習熟》パッシブ
同じ装備を何度も生成するとコストが徐々に減少し、性能も100%に近づき生成できるようになるパッシブスキル

《特化生成》アクティブ
自身が《武装模造》を使用する際併用して発動することで生成する装備の性能を偏らせることが可能。それによって本物を超える装備すら作成可能

超克する武装(ゴブニュ)》必殺スキル
装備の生成を経験するたびに基礎的な性能が向上し本物の限界を超えた模造品になるパッシブスキル。

いわゆる無○の剣製というより投影魔術戦場なら間違いなく装備の一時的な補給もやれる。
エンブリオも模造可能だが、100万近いMPを使用する必要がある。

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